二氧化硅抛光液

二氧化硅抛光液 可以应用在哪些领域
化学机械抛光（CMP）技术是目前各类显示屏、手机部件、蓝宝石、不锈钢、单晶硅片等领域使用广泛的表面超精密加工技术，二氧化硅抛光液是化学机械抛光过程中必不可少的一种耗材，常用的研抛材料有氧化铈、氧化硅、氧化铝和金刚石(钻石)。二氧化硅抛光液主要用于玻璃抛光，金刚石与氧化铝主要用于高硬度晶体的研磨，二氧化硅抛光液主要用于许多材料表面精密抛光。这几种材料往往搭配使用，组成研磨-抛光表面处理工艺。
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